Ascent AP Pulsed and DC Power System

基于 AE® 领先的双极脉冲直流技术,Ascent® AP 电源通过先进的脉冲整形技术以及包含全电压反转和自适应电弧参数调节的四阶段渐进式电弧管理,进一步提升了您优化输出的能力。该紧凑型解决方案采用的专利脉冲技术可主动抑制电弧,其宽广的工作范围则拓宽了材料选择,从而增强了单磁控管和双磁控管工艺的灵活性,并推动了材料创新。
特点
  • 通过丰富的供电参数实现工艺定制

  • 采用分级电弧抑制方案实现先进的工艺管理

  • 紧凑型单机解决方案(最高30 kW)

  • Set Point Compensation™ 技术确保稳定的产量

  • 宽广的工作范围,支持多种工艺材料

  • 兼容 Advanced Energy™ 的 PowerInsight 系统

益处
  • 介电层和导电层的精密溅射

  • 更全面的工艺控制、更高灵活性和更强创新能力

  • 卓越的薄膜质量与高产量

  • 可重复制备且可定制的薄膜

  • 更高功率水平,同时减少电弧损伤

  • 易于集成与控制

规格

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文档下载

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