全数字控制
频率调节、脉冲控制及脉冲同步
实时功率与阻抗测量
电弧管理
相位同步(CEX)
提高等离子体稳定性和工艺重复性
精确控制射频功率
快速响应等离子体变化
轻松适应特定应用需求
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