通过全面的解决方案组合加强工艺控制

Advanced Energy 的射频等离子体功率传输和高速匹配技术可为要求苛刻的 PECVD 和 PEALD 沉积工艺提供性能定制和优化。我们的直流技术可为 PVD (溅射) 和 ECD 沉积工艺提供可配置电弧响应、功率精度和工艺可重复性。 我们还提供温度监控、温度控制和晶圆控制技术，可在制造工艺的多个环节实现精确控制。