通过严格调节输出功率来增强射频稳定性
先进的多级脉冲技术
脉冲同步与监测
实时功率和阻抗测量
先进的FastDAQ数据采集系统
精确控制射频
提高等离子体稳定性
加速等离子体状态转换
缩短工艺时间
提高工艺重复性和腔室匹配度
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