Xstream Remote Plasma Source

高效能的 Xstream® RPS 能分解大量 NF3 并快速清洁腔室,从而提升设备的整体性能。其等离子腔采用高纯度铝合金材质,并具备专利冷却技术。Xstream RPS 设计经久耐用,无需维修或昂贵的腔室涂层,是追求可靠性和高效性能的明智之选。
Features
  • 高度可靠的RPS最大限度地延长了设备运行时间

  • 将活性粒子有效输送至工艺腔室,从而提升性能

  • 配备集成主动匹配网络(AMN)的变压器耦合等离子体(TCP)源

  • 工作频率为225 kHz至660 kHz

  • 8 kW/10 kW功率型号

Benefits
  • 采用定制铝合金和III型硬质阳极氧化处理,省去昂贵的腔室涂层

  • 通过能最大限度降低热应力的冷却系统,提升腔室性能和耐用性

  • 借助有源匹配网络,提高效率并优化向等离子体的功率传输

  • 依托实时等离子体测量技术,精确控制功率和工艺

  • 通过专利点火系统,实现可靠且可重复的等离子体点火

Specifications

image.png

Document Download

采用主动匹配网络的XSTREAM远程等离子体源.pdfClick to download